출처 1: https://www.trendforce.com/news/2026/07/17/news-samsung-reportedly-holds-back-high-na-euv-mass-production-to-contain-costs-ahead-of-foundry-turnaround/

인텔은 자사의 18A 팬서 레이크 프로세서의 특정 레이어에 ASML High-NA EUV 기술을 양산에 도입한 최초의 기업이 되었습니다. 그러나 삼성전자는 이미 두 대의 High-NA EUV 시스템을 설치했음에도 불구하고 아직 양산에 돌입하지 않았습니다. 조선일보에 따르면, 업계 관계자들은 삼성전자의 이러한 신중한 태도가 기술적 한계보다는 재정적인 고려 때문이라고 분석하고 있습니다. 추가적인 자본 투자를 통해 파운드리 사업의 손실을 확대하는 것을 막기 위한 전략이라는 것입니다.

보도에 따르면, 삼성전자는 지난해 화성 캠퍼스에 High-NA EUV 시스템 1대를 설치했고, 올해 상반기에 2대를 추가로 설치하여 총 1조 원이 넘는 투자를 단행했습니다. 삼성전자는 인텔과 발맞춰 High-NA EUV 장비를 도입했지만, 아직 양산 개시를 공식적으로 발표하지 않아 상용화는 보류 중인 것으로 보입니다.

삼성의 파운드리 사업은 2022년 이후 적자를 기록해 왔지만, 일부 시장 전문가들은 올해 4분기부터 흑자 전환이 가능할 것으로 예상하고 있습니다. 적자를 내는 사업에서 고해상도 EUV 장비를 본격적인 양산에 도입하는 것은 감가상각비와 기타 고정 운영 비용을 크게 증가시킬 것입니다. 보고서에 따르면, 현재 흑자 전환이 가시화되고 있는 상황에서 삼성은 추가적인 자본 지출을 꺼리고 있습니다.

보도에서는 삼성의 2nm 수율이 약 55%까지 향상되어 안정적인 양산에 필요한 60% 수준에 근접했습니다. 반도체 장비 업계 관계자는 삼성의 수율이 새로운 장비를 도입할 수 있는 수준에 도달했다고 밝혔습니다. 그럼에도 불구하고 삼성은 주요 고객사의 수주로 수익성이 더욱 확고해질 때까지 보수적인 자본 지출 전략을 유지하고 있습니다.

High-NA EUV 도입, 비용 문제에 직면

High-NA EUV는 단일 노광으로 더 조밀한 회로 패터닝을 가능하게 하여 멀티 패터닝의 필요성을 없애 제조 복잡성을 줄입니다. 조선일보에 따르면, 이 기술은 1.4nm 이하 노드에서 점점 더 중요한 역할을 할 것으로 예상됩니다. 하지만 비용은 여전히 ​​도입의 가장 큰 장벽 중 하나입니다. 로이터 통신에 따르면, 고해상도 EUV 시스템의 가격은 약 4억 달러로, 기존 EUV 장비의 두 배에 달하며, 생산 현장에 통합하는 것 또한 기술적으로는 매우 어렵습니다.

Tom’s Hardware는 앞서 TSMC가 2029년 출시를 목표로 개발 중인 A13 및 A12 공정 기술에는 고해상도 EUV 리소그래피가 필요하지 않을 것으로 예상된다고 보도한 바 있습니다. 실적 발표에서 C.C. 웨이 회장 겸 CEO는 고해상도 EUV를 유망한 기술로 평가하면서도, 기술의 성숙도와 비용이 도입에 있어 중요한 고려 사항이라고 언급했습니다.