7월 28일 로이터(Reuters) 보도에 따르면, 중국이 국산 액침 심자외선(DUV) 노광 장비 생산을 시작했습니다. 국가 지원을 받는 상하이 아이셩나 전자 기술 그룹(Shanghai Aishengna Electronic Technology Group)은 SMIC(Semiconductor Manufacturing International), 화홍 반도체(Hua Hong Semiconductor), 그리고 메모리 생산 업체인 창신 메모리 테크놀로지(ChangXin Memory Technologies)에 장비를 인도할 계획입니다. 생산량은 2026년에 약 5대, 2027년에 약 20대로 소규모로 유지될 것으로 예상됩니다.

이 소식은 직접적인 제품 대체(product substitution)를 통해 ASML Holding N.V.(NASDAQ:ASML)에 타격을 주었습니다. 수출 통제로 인해 이 회사는 이미 가장 진보된 극자외선(EUV) 시스템을 중국에 판매하는 것이 차단되어 있으며, 이로 인해 DUV 스캐너가 중국에서 이용 가능한 주요 노광(lithography) 카테고리로 남아 있습니다. ASML은 중국이 2025년 순매출의 29%, 즉 약 95억 유로를 창출했다고 밝혔으며, 로이터 브레이킹뷰즈(Reuters Breakingviews)는 이 매출이 DUV 장비 및 서비스와 관련이 있다고 언급했습니다. 생산 인증을 통과하는 국산 장비는 설령 중국 팹(fabs)들이 여전히 ASML의 성능을 선호하더라도, 향후 특정 ASML 스캐너 주문을 대체하고 중국 팹들의 ASML 서비스 의존도를 낮출 수 있습니다.

"실행 가능한(Viable)"이라는 단어는 여전히 미해결 상태로 남아 있습니다. 로이터는 중국산 시스템이 성능과 신뢰성 면에서 여전히 ASML에 뒤처져 있으며 추가적인 테스트가 필요하다고 보도했습니다. 칩 제조사들은 지속적인 대량 생산(high-volume production)을 위해 오버레이 정확도(overlay accuracy), 수율(yield), 처리량(throughput) 및 가동 시간(uptime)을 요구합니다. 계획된 생산량 또한 ASML의 설치 기반(installed base)에 비하면 미미한 수준입니다. 이러한 발전은 향후 중국 매출에 대한 전략적 리스크를 높이지만, ASML의 장비가 완전히 대체되었음을 보여주는 것은 아닙니다.

Micron Technology, Inc. (NASDAQ:MU)는 특정 경쟁사와 제조 병목 현상을 통해 연결되어 있습니다. 장비 수혜 대상 중 하나인 CXMT는 DRAM 분야에서 경쟁하고 있습니다. 만약 외국산 장비에 대한 규제가 강화된 상황에서도, 현지에서 서비스 가능한 액침 DUV (immersion DUV) 장비가 결국 CXMT의 품질 인증을 가능하게 하고 신뢰할 수 있는 범용 메모리 (commodity-memory) 생산을 추가할 수 있게 된다면, 이러한 추가적인 비트(bits)는 업계 가격과 Micron의 마진을 압박할 수 있습니다. 이는 공급 곡선 (supply-curve) 측면의 리스크이지, 새로운 장비들이 이미 선도적인 AI 가속기(AI accelerators)를 위한 경쟁력 있는 고대역폭 메모리 (HBM)를 생산할 수 있다는 증거는 아닙니다.

Micron의 현재 실적은 가장 비관적인 해석에 반박합니다. 5월 28일에 종료된 회계 3분기 기준으로, 이 회사는 414.6억 달러의 매출을 기록했으며 데이터 센터 매출이 250억 달러를 초과했다고 밝혔습니다. 경영진은 또한 DRAM과 NAND 수요가 업계 공급을 계속해서 상회하고 있다고 말했습니다. 중국의 DUV 진전은 현재의 이러한 상황을 무효화하지 않으면서도 미래의 공급 곡선에 영향을 미칠 수 있습니다.

Insider Monkey의 보고에 따르면, MU 롱 (long) 포지션을 보유한 헤지펀드 포트폴리오는 2025년 12월 31일 기준 137개에서 2026년 3월 31일 기준 154개로 증가했습니다. 그러나 이러한 확산은 중국의 DUV 보고서가 나오기 훨씬 이전에 발생했습니다.