본 논문은 오실레이터 기반 Ising Machine (OIM)에서 부조화 주입 잠금 (Subharmonic Injection Locking, SHIL)을 유도하기 위한 외부 섭동 (external perturbation)으로서, 회전 오실레이터 어레이 (Rotary Oscillator Array, ROA) 브릭으로 구성된 온칩 통합 회전 진행파 오실레이터 (Rotary Traveling Wave Oscillators, RTWOs)를 소개합니다. SHIL의 온칩 구현은 SHIL의 주파수가 OIM 노드의 동작 주파수의 배수여야 하며, 온칩 변동 (on-chip variations)이 위상에 영향을 미쳐 SHIL 과정을 저하시키기 때문에 매우 도전적인 과제입니다. 이는 Ising 노드의 토폴로지, 결합 (coupling) 또는 그래프 매핑 메커니즘에 관계없이 OIM 구현의 확장을 방해합니다. RTWOs의 ROA 브릭 토폴로지 구현은 고주파 신호를 생성하며, 이는 공정, 전압 및 온도 (Process, Voltage, and Temperature, PVT) 변동 하에서도 안정적인 2.31 GHz SHIL 신호를 제공함을 보여줍니다. PVT 변동 조건에서 분산형 링 오실레이터 기반 SHIL (Distributed Ring Oscillator-based SHIL, ROSC-SHIL)은 주입 잠금 수행에 실패하는 반면, 제안된 ROA 브릭 기반 SHIL (ROA-SHIL)은 샘플 324-노드 max-cut 문제의 OIM 솔루션에서 93%에서 97%의 정확도(이상적인 SHIL 신호와 동일한 정확도)를 유지합니다. 또한 ROA 브릭의 구동 강도 (driving strength)와 플로어플랜 (floorplan)은 확장이 용이함을 보여주었으며, 제안된 ROA-SHIL의 솔루션당 에너지 (energy-to-solution) 영향은 2.49 nJ입니다.