극자외선 (EUV) 마스크를 위한 경사 기반 역 리소그래피 기술 (ILT)을 제시합니다. 새로운 프레임워크는 미분 가능한 도파관 방법 (waveguide method)과 최근 제안된 도파관 신경 연산자 (WGNO)를 엔드 투 엔드 (end-to-end) 물리 엔진으로 취급하여, 전체 순방향 회절 모델 (forward diffraction model)의 자동 미분 (automatic differentiation)을 통해 마스크 흡수체 (absorber)의 유전율 (permittivity)을 복원합니다. $λ{=}11.2$~nm에서 마스크의 실제적인 2D 및 3D 흡수체 (TaBN, La, U)에 대한 수치 실험 결과, 고려된 ILT 방법들이 웨이퍼 상에서 원하는 필드 (field)를 달성하는 마스크 구조를 얻는 것을 가능하게 함을 보여줍니다.