[단독] 삼성전자가 D램 '마의 10나노 벽' 돌파...첫 워킹다이 추출 성공
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요약
삼성전자가 D램 공정 기술에서 장벽으로 여겨졌던 10나노 공정의 한계를 극복했다고 단독 보도되었습니다. 이 성취는 기존에 극복하기 어려웠던 10나노 공정의 한계를 넘어서는 데 성공했다는 것을 의미하며, 이를 입증하기 위해 첫 번째 '워킹다이(Working Die)'를 성공적으로 추출했습니다.
핵심 포인트
- 삼성전자가 D램 공정 기술에서 '마의 10나노 벽'을 돌파하는 기술적 성취를 이루었습니다.
- 기존에 극복하기 어려웠던 10나노 공정의 한계를 성공적으로 넘어서는 데 성공했습니다.
- 기술의 가능성을 입증하기 위해 첫 번째 워킹다이(Working Die) 추출에 성공했습니다.
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